국제
인텔, 중국 다롄 반도체 공장에 첨단 기술 적용
입력 2007-06-21 17:27  | 수정 2007-06-21 17:27
미국의 반도체 업체인 인텔이 오는 2010년 완공 예정인 중국 다롄 공장에 65나노미터 또는 45나노미터 기술을 적용할 계획이라고 차이나데일리가 보도했습니다.
샤더런 다롄시장은 인텔이 65나노미터 또는 45나노미터 기술을 다롄공장에 적용할 것이며, 이를 위해 세계적 수준의 연구개발 시설을 갖출 것이라고 밝혔습니다.
이는 인텔이 다롄에 공장을 건립하겠다고 발표하면서 이 공장에 적용할 기술 수준으로 언급한 90나노미터 기술보다 1, 2단계 상향 된 것입니다.
반도체는 회로의 폭이 가늘면 가늘수록 첨단 제품에 속합니다.


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