SK하이닉스 낸드플래시 기술개발 위해 2000억 투입 R&D센터 짓는다

일본 낸드플래시 업체 도시바 메모리 인수에 4조원을 투자하기로 한 SK하이닉스가 낸드와 미래기술 분야 연구개발(R&D)센터 건립에 2000억원 이상을 투자하기로 했다.
SK하이닉스는 28일 "반도체 기술 역량 극대화를 위해 경기 이천캠퍼스에 연구개발센터를 건설할 계획"이라고 밝혔다.
내달 착공에 들어갈 이 연구개발센터는 지상 15층, 지하 5층에 연면적 약 9만㎡ 규모로 조성된다. 이천캠퍼스 M14 공장 옆 부지에 들어서 4000여명 이상의 인력을 수용하게 된다.
2019년 9월 연구개발센터가 완공되면, 지금까지 이천캠퍼스 내 여러 건물에 분산돼 있던 낸드 개발사업부문 인력들이 한 공간에 모이게 된다. 회사측은 R&D와 생산 현장 간 소통과 협업을 강화해 시너지를 극대화될 것으로 기대하고 있다. 회사 관계자는 "반도체 기술의 개발 난도가 높아져 연구개발 역량의 중요성이 갈수록 커지는 만큼 통합 연구개발센터를 차세대 핵심 연구거점으로 삼아 미래에 대비할 것"이라고 말했다.

연구개발 투자도 확대된다. SK하이닉스의 R&D 투자액은 지난해 처음으로 2조원을 넘겨 2조1000억원에 달했다. 이는 지난해 매출액의 12.2%에 해당하는 것이다. 올해에는 상반기에만 1조1000억원 이상의 연구개발비가 집행돼 이런 흐름이라면 올해 사상 최대 연구개발 투자가 이뤄질 것으로 전망된다.
SK하이닉스는 반도체 기술 역량 강화를 위해 올해 1000명 이상을 채용하고 내년에도 비슷한 수준의 인력을 뽑을 계획을 갖고 있다. SK하이닉스는 전 세계에 2만8000여명의 임직원을 두고 있는데 이 중 약 20%가 R&D 인력이다.
[이동인 기자]