일동히알테크, 히알루론산 유도체 잔류물 제거 관련 특허 확보

일동히알테크, 히알루론산 유도체 잔류물 제거 관련 특허 확보
일동홀딩스는 자회사 일동히알테크가 가교 방식으로 히알루론산 유도체를 합성하는 과정에서 잔류돼 독성을 나타낼 수 있는 가교제 등 이물질을 세척·제거하는 장치·방법에 대한 특허를 확보했다고 27일 밝혔다.
히알루론산은 아미노산과 우론산으로 이루어진 다당류 고분자 화합물로, 사람의 피부, 연골, 눈물 등에 분포한다. 생체 친화적이면서 조직 보호 및 보습 등의 역할을 하여 필러, 관절주사제, 점안제, 화장품 등 의료·미용 소재로 활용되고 있다.
이 같이 히알루론산 유도체의 점성 및 탄력을 확보하기 위해 가교 방식의 제조법이 주로 쓰이는데, 사용된 가교제의 잔류물과 부산물이 히알루론산 유도체에 남아 있을 경우 독성이나 이상반응을 일으킬 수 있다.
일동히알테크는 독자 개발한 특수 장치와 세척법을 통해 가교 히알루론산 유도체의 크기와 형태를 유지하면서 단시간 내에 잔류물·부산물을 제거하고, 균일한 품질로 대량 생산이 가능하다고 설명했다.

일동히알테크 관계자는 "해당 특허 기술을 통해 가교 히알루론산 유도체의 품질과 안전성, 생산성 제고가 가능해졌다"며 "필러 등 자사의 히알루론산 관련 완제품 사업은 물론, 원료 사업에도 탄력을 받을 것"이라고 기대했다.
일동히알테크는 일동제약의 히알루론산 관련 원천기술 및 인프라를 바탕으로 지난 2016년 분할 설립한 회사이다. 현재 충북 청주에 원료의약품 GMP 및 ISO 13485 인증을 획득한 전용 설비를 갖추고 고품질의 히알루론산 원료를 국내외에 공급하고 있다.
[한경우 기자 case10@mkinternet.com]