삼성전자 "올해 시설투자 46조2000억원 계획"

삼성전자는 약 46조2000억원 규모의 '2017년 시설투자 계획'을 31일 발표했다. 이는 지난해 25조5000억원보다 81.18% 늘어난 수치다.
사업별로 반도체 29조5000억원, 디스플레이 14조1000억원 수준이다.
메모리의 경우 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있다. 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다. 디스플레이도 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자 중이다.
3분기 시설투자액은 총 10조4000억원이며 반도체에 7조2000억원, 디스플레이에 2조7000억원이다. 3분기 누계 기준 시설투자액은 32조9000억원이다.
삼성전자 측은 "4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정"이라며 "주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망"이라고 설명했다.
[디지털뉴스국 박진형 기자]